更新层出不穷 7nm制程技术已在研发中
- +1 你赞过了
【天极网DIY硬件频道】Intel已经公布了14nm制程技术细节,马上又开始了新的制程技术的研发工作。从近期对Intel院士进行的采访中,Mark Bohr表示:“我的日常工作就是研究7nm。我相信,没有EUV也能做到。”
EUV就是极紫外光刻。这十几年来,半导体工艺虽然在不断进步,但是核心光刻技术一直没有实质性的突破,还是老一套,EUV就是众望所归的下一站,但其难度之大就连Intel也是异常吃力,结果一拖再拖,至今遥遥无期。
Intel认为,EUV技术已经来不及用于10nm,甚至7nm上都很难说,尽管很多人对此抱着很大的期望。
Bohr进一步解释说:“我对EUV非常感兴趣,真的能帮助工艺进步,部分时候还能将三四个遮罩缩减为一个,但不幸的是,它还没有做好准备,产能和可靠性还不够。”
Bohr没有透露如何在没有EUV的情况下实现10nm、7nm,不过他指出Intel 14nm在一个或多个关键层上使用了新的三重曝光技术。
他还表示,2015年底的时候,Intel会安排部分代工客户体验尝鲜一下10nm,这也暗示新工艺产品将无法按原计划推出,得等到2016年了。如此乐观估计,7nm至少得2018年。
最新资讯
热门视频
新品评测